〔 株式会社イーユーピー 〕 |
訪問日: 2003年1月28日 |
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◆ 同社ウェブサイト |
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◆ プロセスフロー |
宇部興産株式会社及び株式会社イーユーピーへのヒアリング調査及び工場見学に基づき整理したプロセスフローを次図に示す。
加圧二段ガス化システム(EUP)は、宇部興産株式会社のガス精製技術と渇`原製作所の流動床技術をベースに両社が共同で開発した技術である。 |
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図 加圧二段ガス化のプロセスフロー |
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◆ ヒアリングメモ |
以下のようなプロセスを経て、再商品化が行われる。
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自治体等から回収した廃プラスチックは、RDF化した後(25mm径)、ロックホッパを経由して、砂を流動媒体とする流動床炉形式の「低温ガス化炉」に投入される。
低温ガス化炉では、炉底部から供給される酸素、スチームをガス化剤として、温度600〜800℃、圧力0.5〜1.6MPa下で熱分解される。
なお、ガスの発生を安定させるため、RDFの比重をコントロールしているという。このプロセスでは、原料中に含まれる金属(鉄、アルミ)等の不燃物が残渣として炉底部から回収され、埋立処分されている |
A |
低温ガス化炉で生成したガス、タール、チャー等は、高温ガス化炉に供給される。
高温ガス化炉には、酸素、スチームとともに供給され、温度1,300〜1,500℃、圧力0.5〜1.6Mpa下で、熱分解及び部分酸化され、主としてCO、CO2及びH2等を主成分とする合成ガスとなる。
原料中の灰分は、溶融スラグ化される。
部分酸化させるため、供給する酸素の量を完全燃焼に必要な量の約半分に抑えている。
なお、ガス化炉を2段階にするのは、炉内の発生ガスを均一化させるためである。
また、高温ガス化炉の下部では、発生ガスがアンモニア水を用いて急速冷却(→200〜140℃)されるが、これにより、ダイオキシンの再合成を防ぐとともに、発生ガス中に含まれる塩化水素ガスの除去(塩化アンモニウム(塩安)として固定)、未燃炭素分、Si、Al等の微粒スラグ分の除去が行われている。
溶融スラグは炉底部からバッチ的に回収し、セメント原料として用いられている。 |
B |
冷却された発生ガスは、ガス洗浄設備で洗浄される。ここでは、発生ガスの除塵、洗浄が行われる。
ガス中の不燃物はmg/m3のオーダーである。
さらに、このガスは150℃程度の温度を持っているため、スチーム・ジェネレーターでスチームを発生させ、熱エネルギーが回収された後、製品ガスとなる。 |
C |
高温ガス化炉底部で除塵・除去された未燃炭素分と微粒スラグはスラリ形態で連続的に抜き出され、凝集沈殿設備にて沈降分離される。
凝集沈殿設備の上澄み液は急冷用水として再使用されるが、一部は廃水として抜き出され、廃水中に含まれる塩安を結晶化して回収している。 |
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